- 5 Résultats
prix le plus bas: € 166,99, prix le plus élevé: € 191,49, prix moyen: € 171,89
1
Fundamental Principles of Optical Lithography : The Science of Microfabrication - Kees Boersma
Commander
sur hive.co.uk
£ 160,14
(environ € 191,49)
Commander
Détails et expédition
Lien sponsorisé
Kees Boersma:

Fundamental Principles of Optical Lithography : The Science of Microfabrication - nouveau livre

ISBN: 9781119965077

The fabrication of an integrated circuit requires a variety of physical and chemical processes to be performed on a semiconductor substrate. In general, these processes fall into three ca… Plus…

No. 9781119965077. Frais d'envoiInstock, Despatched same working day before 3pm, zzgl. Versandkosten., Livraison non-comprise
fermer(X)
2
Fundamental Principles of Optical Lithography - Chris Mack
Commander
sur Hugendubel.de
€ 166,99
Envoi: € 0,001
Commander
Détails du fournisseur
Lien sponsorisé

Chris Mack:

Fundamental Principles of Optical Lithography - nouveau livre

ISBN: 9781119965077

Fundamental Principles of Optical Lithography ab 166.99 € als epub eBook: The Science of Microfabrication. Aus dem Bereich: eBooks, Sachthemen & Ratgeber, Technik, Medien > Bücher nein eB… Plus…

Frais d'envoiIn stock (Download), , Versandkostenfrei nach Hause oder Express-Lieferung in Ihre Buchhandlung., DE. (EUR 0.00)
fermer(X)
3
Fundamental Principles of Optical Lithography - Chris Mack
Commander
sur eBook.de
€ 166,99
Envoi: € 0,001
Commander
Détails du fournisseur
Lien sponsorisé
Chris Mack:
Fundamental Principles of Optical Lithography - nouveau livre

ISBN: 9781119965077

Fundamental Principles of Optical Lithography - The Science of Microfabrication: ab 166.99 € eBooks > Sachthemen & Ratgeber > Technik John Wiley & Sons eBook als epub, John Wiley & Sons

Frais d'envoiin stock, , , DE. (EUR 0.00)
fermer(X)
4
Fundamental Principles of Optical Lithography - Chris Mack
Commander
sur eBook.de
€ 166,99
Envoi: € 0,001
Commander
Détails du fournisseur
Lien sponsorisé
Chris Mack:
Fundamental Principles of Optical Lithography - nouveau livre

ISBN: 9781119965077

Fundamental Principles of Optical Lithography - The Science of Microfabrication: ab 166.99 € eBooks > Sachthemen & Ratgeber > Technik John Wiley & Sons, John Wiley & Sons

Frais d'envoiin stock, , , DE. (EUR 0.00)
fermer(X)
5
Fundamental Principles of Optical Lithography - Chris Mack
Commander
sur Thalia.de
€ 166,99
Envoi: € 0,001
Commander
Détails du fournisseur
Lien sponsorisé
Chris Mack:
Fundamental Principles of Optical Lithography - nouveau livre

2011, ISBN: 9781119965077

The Science of Microfabrication eBook Chris Mack ePUB, John Wiley & Sons Inc, 10.08.2011, John Wiley & Sons Inc, 2011

Nr. 39951382. Frais d'envoi, Sofort per Download lieferbar, DE. (EUR 0.00)
fermer(X)
1Comme certaines plateformes ne transmettent pas les conditions d'expédition et que celles-ci peuvent dépendre du pays de livraison, du prix d'achat, du poids et de la taille de l'article, d'une éventuelle adhésion de la plateforme, d'une livraison directe par la plateforme ou via un prestataire tiers (Marketplace), etc. il est possible que les frais de livraison indiqués par eurolivre ne correspondent pas à ceux de la plateforme qui propose l'article.

Données bibliographiques du meilleur livre correspondant

Détails sur le livre
Fundamental Principles of Optical Lithography
Auteur:
Titre:
ISBN:

1119965071

Informations détaillées sur le livre - Fundamental Principles of Optical Lithography


EAN (ISBN-13): 9781119965077
ISBN (ISBN-10): 1119965071
Date de parution: 2011
Editeur: John Wiley & Sons

Livre dans la base de données depuis 2008-10-14T13:04:22+02:00 (Paris)
Page de détail modifiée en dernier sur 2022-12-26T17:28:37+01:00 (Paris)
ISBN/EAN: 1119965071

ISBN - Autres types d'écriture:
1-119-96507-1, 978-1-119-96507-7
Autres types d'écriture et termes associés:
Auteur du livre: john mack
Titre du livre: fundamental principles, lithography

Données de l'éditeur

Auteur: Chris Mack
Titre: Fundamental Principles of Optical Lithography - The Science of Microfabrication
Editeur: Wiley; John Wiley & Sons
534 Pages
Date de parution: 2011-08-10
Langue: Anglais
169,99 € (DE)
Not available (reason unspecified)

EA; E101; E-Book; Nonbooks, PBS / Technik/Elektronik, Elektrotechnik, Nachrichtentechnik; Elektronische Geräte und Materialien; Electrical & Electronics Engineering; Elektrotechnik u. Elektronik; Halbleiter; Halbleiterphysik; Lithographie; Physics; Physik; Semiconductor Physics; Semiconductors; Halbleiter; Halbleiterphysik; BB; BC

Preface. 1. Introduction to Semiconductor Lithography. 1.1 Basics of IC Fabrication. 1.2 Moore's Law and the Semiconductor Industry. 1.3 Lithography Processing. Problems. 2. Aerial Image Formation - The Basics. 2.1 Mathematical Description of Light. 2.2 Basic Imaging Theory. 2.3 Partial Coherence. 2.4 Some Imaging Examples. Problems. 3. Aerial Image Formation - The Details. 3.1 Aberrations. 3.2 Pupil Filters and Lens Apodization. 3.3 Flare. 3.4 Defocus. 3.5 Imaging with Scanners Versus Steppers. 3.6 Vector Nature of Light. 3.7 Immersion Lithography. 3.8 Image Quality. Problems. 4. Imaging in Resist: Standing Waves and SwingCurves. 4.1 Standing Waves. 4.2 Swing Curves. 4.3 Bottom Antirefl ection Coatings. 4.4 Top Antirefl ection Coatings. 4.5 Contrast Enhancement Layer. 4.6 Impact of the Phase of the Substrate Refl ectance. 4.7 Imaging in Resist. 4.8 Defi ning Intensity. Problems. 5. Conventional Resists: Exposure and Bake Chemistry. 5.1 Exposure. 5.2 Post-Apply Bake. 5.3 Post-exposure Bake Diffusion. 5.4 Detailed Bake Temperature Behavior. 5.5 Measuring the ABC Parameters. Problems. 6. Chemically Amplifi ed Resists: Exposure and BakeChemistry. 6.1 Exposure Reaction. 6.2 Chemical Amplifi cation. 6.3 Measuring Chemically Amplifi ed Resist Parameters. 6.4 Stochastic Modeling of Resist Chemistry. Problems. 7. Photoresist Development. 7.1 Kinetics of Development. 7.2 The Development Contrast. 7.3 The Development Path. 7.4 Measuring Development Rates. Problems. 8. Lithographic Control in SemiconductorManufacturing. 8.1 Defi ning Lithographic Quality. 8.2 Critical Dimension Control. 8.3 How to Characterize Critical Dimension Variations. 8.4 Overlay Control. 8.5 The Process Window. 8.6 H-V Bias. 8.7 Mask Error Enhancement Factor (MEEF). 8.8 Line-End Shortening. 8.9 Critical Shape and Edge Placement Errors. 8.10 Pattern Collapse. Problems. 9. Gradient-Based Lithographic Optimization: Using theNormalized Image Log-Slope. 9.1 Lithography as Information Transfer. 9.2 Aerial Image. 9.3 Image in Resist. 9.4 Exposure. 9.5 Post-exposure Bake. 9.6 Develop. 9.7 Resist Profi le Formation. 9.8 Line Edge Roughness. 9.9 Summary. Problems. 10. Resolution Enhancement Technologies. 10.1 Resolution. 10.2 Optical Proximity Correction (OPC). 10.3 Off-Axis Illumination (OAI). 10.4 Phase-Shifting Masks (PSM). 10.5 Natural Resolutions. Problems. Appendix A. Glossary of Microlithographic Terms. Appendix B. Curl, Divergence, Gradient, Laplacian. Appendix C. The Dirac Delta Function. Index.

Autres livres qui pourraient ressembler au livre recherché:

Dernier livre similaire:
9780470723869 Fundamental Principles of Optical Lithography (50-99.99)

< pour archiver...